substance painter 2021中文(3D绘画)

　　substance painter 2021中文是一款3D绘画软件，通过这款软件可以让用户在电脑上快速绘制模型，快速对模型渲染，为用户设计游戏角色和设计动画模型提供更多绘图和渲染操作，内置烘培、特效、智能材料和口罩、自动UV展开、紫外线投射、紫外线瓷砖、后期处理、地下散射、ray渲染器、动态材料分层、稀疏的虚拟纹理、自定义着色器等多种功能，可以在处理模型的时候选择对应的烘焙和渲染器对3D绘图作品渲染，用户可以选择不同的材质绘图，也可以选择粒子特效处理3D模型，无论是角色建模还是实体建模都可以在这款软件设计，需要的朋友可以下载体验！

新版功能

　　新几何面膜

　　几何蒙版是图层堆栈中的一个新蒙版工具，它可以根据网格名称或UV贴图隐藏几何。它是先前命名的UV Tile Mask的改进，它基于UDIM编号掩盖了几何形状。

　　与常规绘画（或使用“多边形填充”时）相比，此新工具是一种更好的掩盖几何图形的方法，因为它受益于多项引擎优化。它也是非破坏性的，因为它不存储几何信息（如面或顶点），而是存储网格名称或UV Tile号，因此重新导入网格不会破坏蒙版。另一个好处是，隐藏几何体可以在“纹理集”内以前无法访问的表面上绘画，从而避免了将对象拆分为多个“纹理集”的需要。

　　图层上

　　的新几何图形蒙版几何图形蒙版可在图层堆栈中的任何图层上自动使用。默认情况下，它不起作用，意味着该图层是完全可见的。

　　几何蒙版具有其自己的上下文菜单，该菜单可以快速选择或取消选择其所有项目，也可以将其值复制到另一层。

　　编辑几何图形蒙版属性

　　几何图形蒙版与其他图层的上下文遵循相同的逻辑（例如，编辑蒙版或实例化属性）。要进入几何图形蒙版编辑模式，只需单击图层右侧的虚线正方形即可。要退出几何图形蒙版，请单击同一层的内容或油漆蒙版。

　　通过网格名称或UV平铺进行

　　遮罩在“几何遮罩”属性的顶部是一个下拉菜单，用于控制遮罩模式。可以根据“ UV贴图”编号或“网格名称”进行选择。仅在项目不使用UV Tile工作流程的情况下，此下拉列表将被禁用并设置为网格名称。

　　通过属性遮罩几何体

　　编辑“几何遮罩”时，属性窗口将基于与当前“纹理集”相关的几何体显示网格名称（或UV贴砖）的列表。

　　列表上方的数字表示在可用总数中未遮罩的网格/ UV瓷砖数。

　　数字旁边的菜单提供了快速控制，可以选择全部或不选择任何项目，甚至可以反转当前选择。

　　下面的列表定义了哪些项目被屏蔽。与应用程序中的其他列表一样，可以单击并拖动以一次启用/禁用多个项目，或者使用ALT + Click来隔离项目。

　　通过视口蒙版几何体

　　也可以在2D和3D视图中更改“几何体蒙版”选择。只需将鼠标移到应该可见/隐藏的部分上，然后单击它以切换其状态。编辑几何图形蒙版时，显示的蒙版几何具有灰色和对角线效果。也可以通过单击并拖动以一次选择多个项目来进行矩形选择。

　　绘制隐藏/无法访问的几何图形。

　　选择几何图形以在“几何图形蒙版”中进行遮罩之后，可以启用视口顶部的“隐藏/忽略排除的几何图形”按钮（或通过按ALT + H快捷键）。启用后，将隐藏排除的几何图形（以及其他“纹理集”），以仅显示当前图层包含/可绘制的几何图形。使用此选项可以绘制以前被阻塞或无法到达的区域。此选项也适用于任何种类的层。

　　遮罩了几何图形的绘画仍然是动态的：如果某些遮挡绘画的几何图形最初在进行画笔描边时被隐藏，然后取消遮罩，则它将再次遮挡先前进行的画笔描边。

　　层堆栈效果的新复制和粘贴

　　现在，可以像常规图层一样在图层和图层堆栈之间复制效果。

　　现在还可以进行多选，以提供一次复制和粘贴多种效果的可能性。

　　为方便起见，从图层上的蒙版复制或移动一种效果但没有一个效果会自动添加一个效果。这是因为来自图层内容和蒙版的效果彼此不兼容。这意味着将效果从蒙版复制到图层的内容中将自动切换到蒙版（或创建一个蒙版）。

软件特色

　　1、烘培

　　烘焙是指将基于网格的信息转换为纹理的动作 。然后，着色器和/或物质过滤器会读取这些信息以执行高级效果。例如，智能材料和智能口罩就依赖它们。

　　2、特效

　　效果是可以应用于Substance Painter图层堆栈中图层的内容或蒙版的一组各种动作。它们允许从简单的颜色变化到复杂的蒙版创建无限的变化。默认情况下，Substance Painter随附了多个效果，但是您也可以在Substance Designer中创建自己的工具。

　　3、紫外线瓷砖

　　UV贴图是一种在纹理集内跨多个UV范围对一组以上的纹理进行纹理化的方法。

　　默认情况下，使用传统工作流程时，将在每个UV范围内重复纹理。使用UV Tiles，每个范围将变为专用纹理。通过将UV分为多组纹理，此工作流程允许虚拟地提高总体纹理分辨率。UV Tiles当前仅支持UDIM命名约定。

　　4、后期处理

　　后效果是可以应用于Substance Painter视口中渲染的图像以模拟常见相机效果的滤镜。

　　Substance Painter的后期处理效果由中间件 Yebis支持。效果可以单独启用，但是必须先启用主要的后期处理系统

　　5、地下散射

　　Substance Painter在其实时视口 和 Iray渲染器中均 支持Subsurface散射。

　　当穿透物体或表面时，地下散射是光的一种机制。一部分光而不是像金属表面一样被反射，而是被材料吸收，然后在内部散射。这种行为往往是下的首字母缩写称为SSS为“小号UB小号urface小号cattering”。现实生活中的许多材料都有表面下的散射，例如皮肤或蜡。

安装方法

　　1、打开Setup.exe直接安装主程序

　　2、提示软件的安装协议内容，接受协议

　　3、软件的安装地址是C:\Program Files\Allegorithmic\Substance Painter

　　4、提示软件的启动图标设置，勾选界面的选项

　　5、提示安装准备界面，点击install

　　6、提示安装进度条，等待软件安装到电脑

　　7、substance painter 2021已经安装结束，不要启动软件

方法

　　1、将补丁Substance Painter.exe复制到安装地址替换主程序就完成激活

　　2、替换地址是C:\Program Files\Allegorithmic\Substance Painter，点击替换此目标文件

　　3、现在打开软件使用，Substance Painter是中文软件，如果你会使用就下载吧

使用说明

　　油漆刷

　　绘制工具是Substance Painter的默认工具，用于在3D网格上应用颜色和材料属性。它具有可以通过“属性”窗口编辑的特定参数。

　　“绘画”工具通过各种行为和设置来模拟笔触，以给在3D网格上绘画的感觉。

　　工具列

　　该上下文工具栏将显示如下的快捷方式（看到他们在接下来的章节中说明）：

　　尺寸

　　流

　　中风不透明度

　　间距

　　提供了其他一些工具共有的其他快捷方式：

　　懒鼠

　　对称

　　预习

　　“属性”窗口顶部是画笔和材质预览。它们可用于快速浏览当前工具的设置方式。

　　名称描述

　　笔刷预览

　　笔刷预览显示基于笔刷参数的笔刷行为。可以在预览中单击以绘制自定义笔划。

　　笔刷预览：不支持笔压力。

　　材质预览

　　材质预览显示了当前用于绘画的材质的属性。可以单击预览以旋转照明，并更好地查看材质在绘画之前的行为。

　　刷

　　笔刷参数是定义在3D网格上执行时笔刷的外观的感觉。

　　使用图形输入板时，某些参数可能受笔压控制。此信息也可以保存在预设中。

　　单击专用按钮以启用或禁用压力：

　　名称描述

　　1、尺寸

　　控制笔触内的图章的大小。笔刷的相对大小可以根据定义的相对空间进行更改（请参见下面的“对齐大小空间”参数）。

　　该参数可以通过笔压控制。

　　2、流

　　笔触内部单个印章的强度或不透明度。

　　该参数可以通过笔压控制。

　　3、中风不透明度

　　笔触的最大全局不透明度。与“流量”参数相反，“笔画不透明度”无法通过“笔压”进行控制，因为它是在笔划绘制过程结束时应用的。

　　流量和笔画不透明度之间的区别：

　　左：流量为50％，笔画不透明度为100％

　　右：流量为100％，冲程不透明度为50％

　　通过按下快捷键“ A”，可以像上图中的动画一样继续上一个笔画。

　　4、间距

　　笔触的各个图章之间的距离。较小的值可以创建连续的线，但计算的总数较大，因此计算范围更广。较高的值会在印章之间造成缝隙，这可能更适合特定的图案（例如木制钉子）。

　　5、角度

　　笔触内部的印章方向。如果未正确对齐，则可用于旋转Alpha。可以与“跟随路径”结合使用。

　　6、跟随路径

　　将笔触内部的印章定向为遵循绘画方向。

　　要计算笔划方向，Substance Painter会将前一个图章与当前图章进行比较，这就是为什么启用“跟随路径”后单击单击不会产生任何结果的原因。启用此功能后，至少需要至少两个图章才能绘制笔触。

　　7、大小抖动

　　在画笔描边内为每个图章应用随机大小值。值0表示无随机性，值1表示完全随机性。

　　8、流量抖动

　　在画笔描边内为每个图章应用随机流量值。值0表示无随机性，值1表示完全随机性。

　　9、角度抖动

　　在画笔描边内为每个图章随机施加一个附加的旋转角度。值0表示无随机性，值1表示完全随机性。

　　10、位置抖动

　　在画笔描边内为每个图章应用随机位置偏移。值0表示无随机性，值1表示完全随机性。

　　11、对准

　　确定笔刷笔触内部的图章如何在3D网格的表面上投影/定向。可以使用以下值：

　　相机：将图章朝向视口的方向

　　切线 环绕（默认）：定位印章使其与3D网格表面对齐。压模也将变形以符合表面。

　　切线 平面：调整图章的方向使其与3D网格表面对齐。印章将使其边界距3D网格曲面太远而褪色。

　　UV：基于3D网格UV定位图章。

　　12、背面剔除

　　允许忽略3D网格上与图章不对齐的表面。为了计算应忽略3D网格的哪些部分，绘制引擎会查看3D网格表面的法线，然后将其角度与定义的值进行比较。

　　13、大小空间

　　控制计算画笔大小的相对空间。可能的值为：

　　对象（默认）：笔刷大小与3D网格大小同步。在视口中移动相机会影响尺寸，以使其相对于3D网格保持相对。

　　视口：笔刷大小链接到视口。调整界面大小将影响画笔大小。移动相机不会有任何效果。

　　纹理：笔刷大小与2D视口缩放级别相关联。

　　Α

　　Alpha是应用于画笔描边内每个图章的灰度蒙版。它可以是物质文件或位图。

　　如果物质图具有暴露的参数“硬度”（标识符），则可以使用“硬度”键盘快捷键对其进行控制。

　　物理

　　物理属性允许控制绘画时投射的粒子。

　　默认情况下，物理属性不可用，但可以通过两种方式启用：

　　通过在工具栏中将工具切换为“物理” （或通过键盘快捷键）。

　　通过单击“架子”中的“粒子”笔刷预设。

　　模版

　　模板是用于笔触的附加灰度蒙版。与应用于每个单独图章的Alpha相反，模板是从视口角度应用的全局蒙版。

　　可以通过按S键然后单击视口右上角的“重置”按钮来重置模具变换：

　　模式视图

　　没有资源加载

　　当没有资源被加载时，模具将无效。

　　通过按住键盘快捷键“ N” ，可以临时禁用模板遮罩而不删除资源。

　　移动模具

　　可以通过按S键并单击并用鼠标中键拖动来完成模具的移动。

　　旋转模具

　　旋转模板可以通过按 S 键并单击并用 鼠标 左键拖动来完成。

　　此外，按Shift键可每90度捕捉一次旋转。

　　调整模具尺寸

　　调整模板大小可以通过按S键并单击并用鼠标右键拖动来完成。

　　平铺模式设置控制在视口上如何重复使用模板蒙版（此设置也会影响纹理）：

　　平铺模式描述

　　无平铺（默认）

　　模板遮罩不会重复。

　　水平平铺

　　仅在水平轴上重复模板遮罩。

　　垂直平铺

　　仅在垂直轴上重复模板遮罩。

　　水平和垂直平铺

　　在水平和垂直轴上都重复使用模板遮罩。

　　材料

　　材质由多个通道组成，每个通道保留特定的属性。通道列表取决于“纹理集设置”窗口中定义的通道 。

　　“材料模式”按钮是一种加载物质文件或预设的简便方法，可快速一次分配和编辑多个通道。

　　单击频道按钮将选择或取消选择它。取消选择该通道属性后，将无法对其进行修改，并且不会在绘画过程中使用它。

　　架

　　在架子上可以管理项目，当前会话或磁盘上可用的所有资产和资源。

　　架子可以列出各种类型的文件。从位图到Substance文件，甚至是自定义画笔预设。

　　有架子的窗户有两种：主架子和子架子。

　　主架子允许管理架子预设并浏览各种资源

　　子架是可以在界面中随时创建的自定义窗口。从货架预设创建。

　　在架子上导航

　　预设工具栏

　　该 工具栏预设 包含多用途按钮列表：

　　1、展开/折叠预设列表

　　2、将货架预设或当前搜索结果提取到新窗口中

　　3、将当前过滤保存到新的架子预设中

　　4、隐藏默认预设

　　5、导入新资源

　　预设清单

　　预设包含所有现有预设的列表。

　　默认预设不能删除，但可以通过专用按钮隐藏。可以随时重命名或删除新创建的预设。

　　将预设提取到专用窗口后，更新预设不会更新该窗口。它们不是动态链接的。

　　筛选和搜索字段

　　1、打开面板以配置当前过滤

　　2、将当前搜索查询重置为其默认值（如果已修改）

　　3、当前的搜索查询（通过鼠标查看描述完整查询的工具提示）

　　4、搜索字段，用于键入其他关键字并完善当前过滤条件

　　查看资产信息

　　可以右键单击货架中的资产以获取更多信息：

　　上下文菜单将显示：

　　名称 ：资产的名称（如果是预设，则可以重命名）。

　　用法 ：资源搜索所引用的使用类型，用于对其进行过滤以进行搜索。

　　路径 ：资产的位置。它可以是Project（对于当前项目），Session或Shelf的名称。（您可以添加自定义货架位置。）

　　从当前工具 更新：将根据工具属性窗口中可用的当前参数更新预设。

　　删除 ：如果有预设，它将从磁盘中删除资产。如果这样做， 则可以使用“撤消”按钮。

　　导出到物质股份 ：打开一个窗口，允许资产导出到 物质分享。

　　设置/更新自定义预览 ：允许为该资产指定自定义缩略图。

　　关闭 ：关闭上下文菜单。

　　过滤货架内容

　　1、路径：允许通过文件夹/文件夹结构优化搜索结果。

　　2、用法：列出应用程序中所有可用的用法

　　3、文字查询：允许自由添加任何其他类型的查询（例如自定义关键字）

　　定义新的搜索查询时，可以进行多种选择。

　　路径

　　路径查询允许根据路径优化查询。树视图列出了所有可用的架子（在主要首选项中定义）。

　　因此，可以将其用于按自定义货架路径进行过滤或用于层次结构中的特定子文件夹。

　　用法

　　用法定义什么是资源以及如何在Substance Painter中使用它。有些可以由资源的文件类型定义，有些则不能。

　　例如 ：

　　pbr.glsl：着色器文件，只能在一个地方使用。

　　effect.sbsar：物质文件，可以是蒙版生成器，滤镜甚至材料。

　　这就是为什么在将资源导入到机架中时正确指定资源的使用很重要，否则应用程序将无法正确识别它。

　　文本

　　文本查询支持多种类型的过滤，其中某些过滤比常规接口更高级。

　　可以通过键入正确的关键字来启用它们。

　　可用的搜索类型：

　　“ n： ”：名称

　　“ s： ”：架子（包括“会话”和“项目”）

　　“ p： ”：路径

　　“ u： ”：用法

　　转义：可以在需要转义的字符之前使用“ \ ”，也可以使用引号，例如：

　　\名称\带有\空格

　　“一个带空格的名字”

　　特定属性（或组）：要搜索特定属性，请在“或组”前添加类型说明符。范例：

　　n：a，b，c，d ：名称是a或b或c或d

　　搜索行为：

　　要过滤特定用法，请将特定关键字添加到您的搜索中，例如：“ images images四周”

　　要添加多个请求，使用逗号“ ”，例如：“钴，金”（如果逗号是你使用，搜索将只显示在同一时间这两个关键字匹配的资源）

　　要搜索确切名称，请使用感叹号“！” 最后，例如：di！（将返回灰尘但不会滴落，此关键字禁用模糊匹配）

　　要从搜索中排除模式，请使用连字符“ - ”，例如： u：image n：-normal（将返回不包含“ normal”的图像）

　　匹配功能（模式后缀）：

　　默认值 ：近似匹配（模糊）

　　包含 ：！

　　正则表达式 ：

　　等于：=

　　开头为：^

　　以：结尾

　　将内容添加到架

　　通过导入窗口添加内容

　　打开导入窗口

　　可以通过三种不同的方式调用Substance Painter的导入窗口：

　　通过文件>导入资源...菜单项

　　通过将一个或多个文件/文件夹拖放到架子窗口中

　　通过货架窗口中的专用按钮（请参见下图）

　　架子上的导入按钮：

　　配置导入窗口

　　添加资源：允许选择其他文件以导入它们。

　　删除选定的资源：如果在列表中选择了文件，则此按钮将删除它。

　　下拉过滤器：允许按用途过滤文件列表。这对于隔离当前未定义的资源很有用。

　　用法：有关更多信息，请参见下面的“用法”部分。

　　前缀：前缀可以是定义资源存储位置的文件夹路径

　　Filename：当前资源的名称。有时可以指出从中找到资源的文件夹，在导入过程中不会使用此信息。

　　导入位置：可以是：

　　当前会话：进入临时会话后，重新启动应用程序后资源将丢失。

　　项目“项目名称”：进入当前打开的项目文件。资源嵌入在spp文件中。

　　架子“架子名称”：进入定义为可写的当前架子。有关更多信息，请参见此页面： 架子配置

　　您可以在导入窗口中一次选择多个项目，以快速编辑一些信息：

　　环境设定

　　显示设置的此部分控制项目场景中的照明。

　　环境

　　设置：描述

　　环境图：

　　用于照亮场景的环境贴图纹理。可以使用“环境”预设在架子上找到。

　　单击按钮以打开一个迷你架子，然后选择其他环境图。

　　环境不透明度：

　　控制视口背景中环境纹理的可见性/不透明度。此设置对场景的照明没有影响。

　　环境暴露：

　　曝光值（EV）是代表固定场景亮度的数字。此设置允许偏移默认亮度值。

　　使用Substance Painter随附的环境贴图时，此设置应保持为0。对具有错误曝光值的资产进行纹理处理可能会导致其他应用程序出现颜色校准问题。

　　环境旋转：

　　控制环境纹理的水平旋转。用于旋转场景中的照明并更改对象的反应。可以用快捷方式控制。

　　环境模糊：

　　控制环境纹理在视口背景中出现的清晰度或模糊度。此设置对照明没有影响。

　　暗影

　　设置：描述

　　暗影：

　　在视口中启用/禁用阴影渲染。

　　计算方式；

　　控制阴影的计算速度。

　　密集型：计算速度快，但会冻结视口的渲染。

　　平均值：密集和轻量模式的平均值。

　　轻量级：（默认）计算可以使阴影变慢几秒钟，但不会降低视口性能。

　　阴影不透明：

　　控制阴影在场景中的可见程度。

　　相机设定

　　显示设置的此部分 控制摄影机的行为以及视口图像的最终外观。

　　相机

　　设置：描述

　　视场：

　　允许控制摄像机的视场（以度为单位）

　　对焦距离：

　　定义对焦点所在的距离。

　　此点由“景深”效果使用。

　　可以通过使用快捷键CTRL +鼠标中键单击网格的点来自动设置“聚焦距离”

　　光圈：

　　定义景深的宽度。

　　如果Iray正在控制此参数，则对其进行更改将重新触发计算。

　　后期特效

　　有关更多信息，请参见后期效果页面。

　　临时抗锯齿

　　启用时，临时抗锯齿（TAA）将删除视口中的锯齿状边缘。

　　TAA 通过在多个渲染帧上累积信息来工作，这意味着直到相机停止移动或执行其他操作之前，效果一直处于禁用状态。

　　设置描述

　　积累：

　　将累积许多帧的定义以减少混叠。

　　16：大多数情况下的推荐值

　　64：对于清除对比度非常高的值很有用（例如结合使用Alpha Test着色器和抖动）

　　此设置对性能没有任何影响，但是高值可能需要更长的时间才能完成，以产生良好的效果。

　　如果启用了“ Alpha Dithering ”设置，则抗锯齿也可以用来过滤 Alpha-Test着色器：

　　地下散射

　　颜色配置文件

更新日志

　　2021.1

　　（2021年1月28日发布）

　　摘要：主要版本，新的几何蒙版，它可以选择和绘制部分几何图形，在图层堆栈中复制/粘贴效果，改进UV Tile工作流程，更新Iray，Bakers，Substance Engine和新内容

　　添加：

　　新的几何图形蒙版并绘制几何图形的选定部分

　　[几何蒙版]允许通过网格名称绘制几何的选定部分

　　[几何遮罩]两个视口中的矩形选择

　　[几何蒙版]允许隐藏/忽略任何图层上排除的几何

　　[几何蒙版] [属性]通过单击和拖动快速选择复选框

　　[几何图形蒙版] [属性] [UI]在“属性”窗口中通过下拉菜单包含/排除所有对象

　　[几何蒙版] [属性]使用ALT +左键单击可快速选择列表中的一项

　　[几何蒙版] [属性]在“属性”窗口中悬停网格名称/ UV贴图时，在视口中叠加

　　[几何蒙版] [层堆叠]将复制/粘贴选项添加到几何蒙版

　　[几何图形蒙版]用于隐藏/忽略排除的几何图形按钮的新图标

　　[几何蒙版]用于隐藏/忽略排除的几何的新工具提示

　　[几何图形遮罩]键盘快捷键ALT + H可以打开/关闭“隐藏忽略排除的几何图形”按钮

　　[UV Tiles] [Layer Stack] UV Tiles和简化模式的新填充层球体预览缩略图

　　[UV Tiles] [Layer Stack]允许轻松退出UV Tile遮罩

　　[UV Tiles] [Texture Set List]允许每个UV Tile提供描述

　　[UV Tiles] [Texture Set Settings] [UI]下拉菜单中的两个新部分标题可更改UV Tile分辨率

　　[UV贴图] [视口]将材质拖到视口时退出UV贴图蒙版

　　[图层堆栈]添加效果的复制/粘贴选项

　　[图层堆栈]允许将效果从一个纹理集复制/粘贴到另一个纹理集

　　[Layer Stack]允许多重选择效果

　　[图层堆栈]添加复制/粘贴选项作为图层效果的快捷方式

　　[Layer Stack]将效果拖到另一层时自动在蒙版和内容之间切换

　　[图层堆栈]从另一层粘贴蒙版时自动创建蒙版

　　[图层堆栈]在效果的上下文右键菜单中添加移动效果动作

　　[Layer Stack]允许将效果从一层拖放到另一层

　　[图层堆栈]将项目拖到文件夹中会将其放置在文件夹顶部

　　将Iray更新到版本2020.1.0

　　[面包师]将面包师更新为2.5.4版

　　[面包师]在烘焙进度窗口中显示单个UV贴图

　　[Bakers] [UI]允许使用新按钮快速烘焙当前的纹理集

　　[面包师]允许用户使用ALT +左键快速选择面包师之一

　　将Substance Engine更新到版本8.0.8

　　[物质引擎]在新的.sbsar文件中支持默认颜色

　　[自动展开]性能提升

　　[导出]添加视觉反馈，以指示哪个UV Tile的分辨率不同于项目的默认分辨率

　　[导出]将场景大小因子添加到导出的着色器json文件中

　　[语言]添加日语翻译

　　[UI]具有内部依赖项版本控制的“更新关于”窗口

　　[脚本] [Python]允许管理货架资源

　　[脚本] [Python]允许知道项目何时准备好进行烘焙和导出

　　[脚本] [Python]允许知道机架何时完成对磁盘上资源的爬网

　　[脚本] [Python]允许查询每个纹理集的UV瓷砖列表

　　[脚本] [Python]允许将自定义预览分配给Shelf资源

　　[脚本] [Python]允许管理自定义货架

　　[脚本] [Python]在文档的每个子模块中添加方法索引

　　[脚本] [Python]文档的新样式

　　[脚本] [Python]资源和货架文档的改进

　　[内容]三种新的绣花工具预设

　　[架子]在过渡到新的物质共享平台时，暂时删除“导出到物质共享”

　　固定：

　　使用不同分辨率的显示器时崩溃

　　某些罕见项目导致Substance Engine崩溃

　　切换图层时，视口刷新失败，并显示“隐藏/忽略排除的几何图形”

　　[2D视图]在某些项目中可能缺少2D视口

　　[烘焙]“按网格名称匹配”忽略对象的某些部分

　　[图层堆栈]单击图层效果可打开文件夹

　　[几何遮罩]即使重新导入没有网格的网格，UV瓷砖仍会计入遮罩

　　[几何遮罩]视口中的右键单击菜单未提供正确的工具

　　[引擎]特定项目的严重滞后

　　[脚本] Windows上具有远程JSON POST请求的高延迟

　　[Linux]使用特定的集成GPU无法正确检测到Vram数量

　　[自动展开]在某些项目上崩溃或长时间展开